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无氰电镀金– 钴合金1979 年桑德斯托姆(Sandstorm)和沃斯顿(Waston)测定了电镀金–钴合金的阴极极化曲线,并讨论了溶液中金离子和钴离子浓度、镀液 pH、电流密度、搅拌等因素对阴极效率和镀层中钴含量的影响。金和钴的共沉积能够明显提高金镀层的硬度,电镀镀层的显微硬度大约为 70 HV,而采用金–钴电镀液得到的金合金镀层的显微硬度可达到 130 HV。金–钴合金镀层主要用于集成电路电接点、印刷电路板等耐磨件。已投产的或在研制中的无氰电镀金–钴合金镀液有以下一些类型:卤化物镀液、硫代硫酸盐镀液、硫代苹果酸盐镀液、亚硫酸盐镀液、焦磷酸盐镀液等 。
氰化钾 (氰化钠)。配合剂,适量游离氰化钾的存在, 能使镀液稳定,镀层结晶细致,金阳极正常溶解。含量过低,镀液不稳定,镀层粗糙,色泽不好。
磷酸盐。缓冲剂,使镀液稳定,改善镀层光泽。
碳酸盐。导电盐,可提高镀液导电率,改善镀液分散 能力。但镀液为碱性,若开缸时不加碳酸盐,长期使用后,空气 中的二氧化碳进入镀液,也会累积碳酸盐。
镍、钴盐是添加剂,可显著提高金镀层的硬度和耐磨 性。
工艺条件的影响
(1) pH值。pH值影响镀液中配合物的形成,影响外观和 硬度。应按碱性、中性及酸性镀液的要求,严格控制pH值。pH 值过高或过低,得到的镀层外观都不理想,硬度也会下降。
(2) 温度。温度影响电流密度范围和镀层外观,对镀液导 电性影响不大。升高温度可提高阴极电流密度范围。但温度过 高,会使镀层粗糙、发红甚至发暗发黑。温度过低,使阴极电流 密度范围缩小,镀层易发脆。
(3) 阴极电流密度。一般采用较低的阴极电流密度。当电 流过高时,阴量析氢,电流效率低。
溶液的配制
(1) 氯化金的制备。
将(纯度99.98%) 切碎,洗净烘干,在通风良好、水 浴加热的条件下,用王水溶解金(1g需浓硝酸2.7mL和浓 盐酸8mL)。然后不断搅拌,加热浓缩(不得超过100℃,以免 生成不溶于水的一价金化合物) 以除去二氧化氮,直至得到红 色的浓稠物(三氯化金),冷却备用。
金镀层主要镀在镍镀层上,镍镀层(低应力镍、半光亮镍、光亮镍、化学镍)3~8.9μm,作为金和铜、铁之间的阻挡层,主要作用是防止金与铜、铁之间相互扩散。底镀层的亮度和整平情况对改善薄金层亮度有明显作用。金也可镀在铜、黄铜等基体上,但长期使用后铜会扩散到金镀层,失去金镀层的作用。对钢、铜、银及其合金基体而言,金镀层为阴极性镀层。镀层的孔隙影响其防护性能。根据预镀零件基体材料的不同,镀金工艺过程也稍有差异。
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